国标标准:GB/T 17473.3《微电子技术用贵金属浆料测试方法 方阻测定》测试要求
标准号 Standard No. | 中文标准名称 Standard Title in Chinese | 英文标准名称 Standard Title in English | 状态 State | 备注 Remark |
GB/T 17473.3-1998 | 厚膜微电子技术用贵金属浆料测试方法 方阻测定 | Test methods of precious metal pastes used for thick film microelectronics--Determination of sheet resistance | 废止 | 1999-03-01实施 |
GB/T 17473.3-2008 | 微电子技术用贵金属浆料测试方法 方阻测定 | Test methods of precious metals pastes used for microelectronics Determination of sheet resistance | 现行 | 2008-09-01实施,代替GB/T 17473.3-1998 |
本标准规定了微电子技术用贵金属浆料中方阻的测定方法。本部分适用于微电子技术用贵金属浆料方阻的测定。
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Test Item 测试名称: GB/T 17473.3 微电子技术用贵金属浆料测试方法 方阻测定
Test Requirement 测试要求:
Sample Size 样品数量 / 送样规格: 300ml or 300g
Lead Time / TAT (Turn Around Time) 测试周期:常规服务 Regular service 12 working days
Report Summary 报告摘要:
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